基本信息
摘要：A method and means for determining the thickness, or curvature, of a thin film or stack of thin films disposed on the surface of a substrate having a curvature comprising generating a beam of radiation, focusing the beam through the one or more films onto a surface of the substrate, measuring the intensity across the reflected beam as a function of the angle of incidence of a plurality of rays derived from the focussed beam, determining the path of each of the plurality of rays and determining the thickness, or curvature of the film, or films, from the angular dependent intensity measurement. L'invention concerne un procédé et des moyens permettant de déterminer l'épaisseur ou la courbure d'une couche mince ou d'un empilement de couches minces disposées sur la surface d'un substrat présentant une courbure, comprenant la génération d'un faisceau de rayonnement, la focalisation du faisceau à travers lesdites une ou plusieurs couches sur une surface du substrat, la mesure de l'intensité à travers le faisceau réfléchi en fonction de l'angle d'incidence d'une pluralité de rayons provenant du faisceau focalisé, la détermination de la trajectoire de chaque rayon de la pluralité de rayons et la détermination de l'épaisseur ou de la courbure de la couche ou des couches à partir de la mesure d'intensité dépendant de l'angle.
摘要附图：
