基本信息

• 发明名称： 【发明专利】 气体流量计及其制造方法
• 申请日： 1970-08-21
• 申请号/专利号： CN02147069.3
• 专利权人： 中田圭一;堀江润一;山田雅通;渡边泉
• 申请人： 株式会社日立制作所;株式会社日立汽车工程
• 分类号： G01F1/69
• 发明人/设计人： 中田圭一;堀江润一;山田雅通;渡边泉
• 公开日/公告日： 1970.08.21
• 优先权号： G01F1/69
• 代理机构：
• 代理人：
• PCT申请号： 无
• PCT申请日期： 无
• PCT进入国家阶段日： 无
• 生物宝藏信息： 无
• 审查员： 无

摘要：一种能够降低时效变化的气体流量计，包括形成的含有腔室的半导体基材和在半导体基材腔室以上通过绝缘膜形成的热元件。该热元件是在高浓度下杂质掺杂的硅(Si)半导体薄膜。在硅(Si)半导体薄膜以上和以下形成作为屏蔽层的化学计量稳定的氮化硅(Si₃N₄)薄膜，它在热元件的生热温度范围中较少渗透和较少吸收氢气。

摘要附图：