基本信息
摘要：Provided are a transparent or semi-transparent material microscopic-defect detection system and method, said detection system comprising: a coherent light source (10), used for emitted coherent beam scanning of a transparent or semi-transparent sample material; a photoelectric sensor (20), used for acquiring scattered light intensity imaging of said sample material; a controller (40), used for obtaining the scattered light intensity imaging corresponding to the scan position; performing a Fourier transform on the scattered light intensity imaging to obtain a corresponding amplitude spectrum and phase spectrum, and obtaining the cutoff frequencies of said amplitude spectrum and phase spectrum; said cutoff frequencies correspond to the scan position and corresponding relative position of acquisition; monitoring the scan position when the cutoff frequency does not fall within a frequency threshold range, taking the scan position to be a defect position, and determining a defect according to said defect position; the frequency threshold range is calculated in advance according to the Lorenz–Mie theory and is a reference value range based on the light scattering of an impure medium corresponding to the relative position of acquisition. L'invention concerne un système et un procédé de détection de défaut microscopique dans un matériau transparent ou semi-transparent, ledit système de détection comprenant : une source de lumière cohérente (10), utilisée pour un balayage d'un matériau échantillon transparent ou semi-transparent par un faisceau cohérent émis ; un capteur photoélectrique (20), utilisé pour acquérir des images de l'intensité lumineuse diffusée par ledit matériau échantillon ; un dispositif de commande (40), utilisé pour obtenir les images de l'intensité lumineuse diffusée correspondant à la position de balayage ; effectuer une transformée de Fourier sur les images de l'intensité lumineuse diffusée pour obtenir un spectre d'amplitude et un spectre de phase correspondants, et obtenir les fréquences de coupure dudit spectre d'amplitude et dudit spectre de phase ; lesdites fréquences de coupure correspondent à la position de balayage et à la position relative correspondante d'acquisition ; surveiller la position de balayage lorsque la fréquence de coupure ne se situe pas dans une plage de fréquences seuils, considérer la position de balayage comme correspondant à la position d'un défaut, et déterminer un défaut en fonction de ladite position du défaut. La plage de fréquences seuils est calculée à l'avance selon la théorie de Lorenz-Mie et constitue une plage de valeurs de référence fondée sur la diffusion de la lumière par un milieu impur correspondant à la position relative d'acquisition. 一种透明或半透明材料微观缺陷检测系统及方法，检测系统包括：相干光源（10），用于出射相干光束扫描透明或半透明的检材；光电传感器（20），用于采集所述检材的散射光强成像；控制器（30），用于获取与扫描位置对应的所述散射光强成像；对散射光强成像进行傅里叶变换，得到相应的幅度谱和相位谱，获取所述幅度谱和相位谱的截止频率；所述截止频率与所述扫描位置及其对应的相对采集位置对应；监测所述截止频率不属于频率阈值范围时的扫描位置，将该扫描位置作为缺陷位置，根据所述缺陷位置确定缺陷；频率阈值范围为预先根据洛伦茨-米氏理论计算出的，与所述相对采集位置对应的基于非纯净介质光散射的参考值范围。
摘要附图：
